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一种GaAs单晶生长用清洗装置
公开号: CN222220493U | 申请号: CN202420948034.2

申请类型: 实用新型

申请号: CN202420948034.2

申请日期: 2024-05-06

公开号: CN222220493U

名称: 一种GaAs单晶生长用清洗装置

公开日期: 2024-12-24

当前法律状态: 授权

状态: 有权

主要IPC: B08B3/02(2006.01);B08B13/00(2006.01);B08B3/14(2006

申请人(专利权人): 喻嘉科技（德州）股份有限公司

发明人/设计人: 李卓骏;黄飞;张丽

地址: 253400 山东省德州市宁津县339国道与前杨村村口交叉口南300米路西

摘要: 本实用新型公开了一种GaAs单晶生长用清洗装置，包括清洗本体、驱动装置、清洗装置和多个排水口，其中，驱动装置包括驱动组件和传动组件，其中，驱动组件分别设置在清洗本体的两侧；传动组件分别可转动地设置在清洗本体内，且传动组件与驱动组件相连；清洗装置包括清洗组件，其中，清洗组件设置在清洗本体上；多个排水口分别设置在清洗本体上一侧。由此，通过设置驱动组件和传动组件，能够显著增强清洗装置的批量处理能力，大幅提升了清洗效率，同时设置有倾斜角度的传送带，使得单晶在传送过程中能够更全面地暴露于清洗液或清洗气流中，有效避免了清洗死角，从而确保每一块单晶都能得到彻底而均匀的清洗。

代理人: 程志文

代理机构: 北京亿知臻成专利代理事务所(普通合伙) 16123