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一种用于提高靶材镀膜均匀性的圆形靶材
公开号: CN222226530U | 申请号: CN202420163315.7

申请类型: 实用新型

申请号: CN202420163315.7

申请日期: 2024-01-23

公开号: CN222226530U

名称: 一种用于提高靶材镀膜均匀性的圆形靶材

公开日期: 2024-12-24

当前法律状态: 授权

状态: 有权

主要IPC: C23C14/35(2006.01);C23C14/54(2006.01)

申请人(专利权人): 宁波江丰电子材料股份有限公司

发明人/设计人: 姚力军;潘杰;王锦;王学泽

地址: 315400 浙江省宁波市余姚市经济开发区名邦科技工业园区安山路

摘要: 本实用新型提供了一种用于提高靶材镀膜均匀性的圆形靶材，所述圆形靶材包括中心靶区以及沿远离径向方向依次分布的至少2个圆环靶区；中心靶区与各圆环靶区的晶粒尺寸互不相同。本实用新型通过设置中心靶区与各圆环靶区的晶粒尺寸互不相同，以此满足其在不同位置内部有不同的织构，避免了圆形靶材在溅射过程中由于不同位置磁铁强度的不同，造成溅射后期镀膜均匀性差的问题。

代理人: 邱华敏

代理机构: 北京远智汇知识产权代理有限公司 11659