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一种CVD金刚石化学气相沉积机构
公开号: CN222226547U | 申请号: CN202420001671.9

申请类型: 实用新型

申请号: CN202420001671.9

申请日期: 2024-01-02

公开号: CN222226547U

名称: 一种CVD金刚石化学气相沉积机构

公开日期: 2024-12-24

当前法律状态: 授权

状态: 有权

主要IPC: C23C16/27(2006.01);C23C16/44(2006.01);C23C16/46(20

申请人(专利权人): 湖州中芯半导体科技有限公司

发明人/设计人: 刘宏明;李升

地址: 313000 浙江省湖州市吴兴区高新区中横港路33号2号厂房5号

摘要: 本实用新型涉及一种CVD金刚石化学气相沉积机构，包括圆形真空反应罐为夹层结构，且圆形真空反应罐侧边均匀开设有活动密封孔，圆形真空反应罐内部中心位置设有沉积台，沉积台下端设有加热机构，加热机构设置在圆形真空反应罐下端中部，圆形真空反应罐下端均匀设有三个相同的缓震支撑腿，加热机构右侧设有抽真空设备，抽真空设备上端固定连接圆形真空反应罐，通过设置沉积台，利用加热机构对导热柱进行加热，从而使得发生台上温度上升，沉积复合片上沉积效率升高，而且将沉积复合片竖直放置，确保正反两面均可以生长晶体，还设置了缓震支撑腿来实现沉积效率高，缓震效果好，密封性能佳，安全系数高。

代理人: 魏俊萍

代理机构: 北京凯谦巨邦专利代理有限公司 32303