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一种多层金属湿法腐蚀的硅片旋转提拉机构
公开号: CN222226653U | 申请号: CN202420595634.5

申请类型: 实用新型

申请号: CN202420595634.5

申请日期: 2024-03-26

公开号: CN222226653U

名称: 一种多层金属湿法腐蚀的硅片旋转提拉机构

公开日期: 2024-12-24

当前法律状态: 授权

状态: 有权

主要IPC: C30B33/10(2006.01);B81C1/00(2006.01);B08B3/04(2006

申请人(专利权人): 福建安特微电子有限公司

发明人/设计人: 黄赛琴;黄福仁;潘少辉;郑志霞

地址: 351100 福建省莆田市涵江区江口镇赤港涵新路3555号

摘要: 本实用新型涉及金属湿法腐蚀技术领域，尤其为一种多层金属湿法腐蚀的硅片旋转提拉机构，包括工作台和支撑腿，工作台底部固定连接支撑腿，工作台通过矩型槽固定连接试剂槽和清洗槽，工作台顶部后侧固定连接支撑板，支撑板顶部固定连接滑轨，滑轨左右两侧均固定连接防脱板，防脱板顶部均固定连接防尘板，滑轨内侧固定连接卡齿板，滑轨外侧滑动连接滑动套板，滑动套板顶部固定连接第一电机，本实用新型中，通过设置的卡齿板、滑动套板和卡齿轮，可以将片框内的金属片带动到试剂槽和清洗槽内进行腐蚀加工和清洗，并通过旋转片框提高加工效率，使得产品的一致性得到保障，且可以避免操作员近距离接触化学试剂，保证了操作员的身体健康。

代理人: 赵冬禹

代理机构: 深圳国联专利代理事务所(特殊普通合伙) 44465