申请类型: 实用新型
申请号: CN202420674168.X
申请日期: 2024-04-02
公开号: CN222232147U
名称: 一种硅基样品划片装置
公开日期: 2024-12-24
当前法律状态: 授权
状态: 有权
主要IPC: G01N1/28(2006.01);G01B11/00(2006.01)
申请人(专利权人): 武汉理工大学
发明人/设计人: 洪建勋
地址: 430070 湖北省武汉市洪山区珞狮路122号
摘要: 本实用新型的技术方案提供一种硅基样品划片装置,包括样品平台、刻头组件、线性驱动件以及显微镜;刻头组件包括伸缩件、压力传感器和刻划头,所述刻划头设置在伸缩件的活动端,所述压力传感器设置在所述刻划头与伸缩件之间,用于检测刻划头的刻划压力;线性驱动件其安装在样品平台上方,且活动端与所述刻头组件连接,用于驱动刻头组件进行线性移动。本实用新型通过刻头组件和线性驱动件的配合,可控施压压力,并具有线性导向的进行划片,刻划方向稳定,划线成功率高,避免了施压压力过大导致的硅基样品破裂,再配合显微镜,以其上的标线,便于对刻线位置进行校准定位和监视整个刻划过程,便于控制划片的位置精度。
代理人: 万青青
代理机构: 武汉智嘉联合知识产权代理事务所(普通合伙) 42231
申请日期: 2024-04-02
公开日期: 2024-12-24
查看更多申请日期: 2024-04-01
公开日期: 2024-12-24
查看更多申请日期: 2024-03-29
公开日期: 2024-12-24
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公开日期: 2024-12-24
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公开日期: 2024-12-24
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公开日期: 2024-12-24
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公开日期: 2024-12-24
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公开日期: 2024-12-24
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公开日期: 2024-12-24
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公开日期: 2024-12-24
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查看更多申请日期: 2024-05-06
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