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预热装置及半导体工艺设备
公开号: CN222233579U | 申请号: CN202420077193.X

申请类型: 实用新型

申请号: CN202420077193.X

申请日期: 2024-01-11

公开号: CN222233579U

名称: 预热装置及半导体工艺设备

公开日期: 2024-12-24

当前法律状态: 授权

状态: 有权

主要IPC: H01L21/67(2006.01);B08B9/093(2006.01)

申请人(专利权人): 北京北方华创微电子装备有限公司

发明人/设计人: 宋文涛;赵学彬;陈超

地址: 100176 北京市大兴区北京经济技术开发区文昌大道8号

摘要: 本实用新型提供了一种预热装置及半导体工艺设备，涉及半导体设备技术领域，为解决现有工艺槽的配液和换酸的准备过程需要大量时间，导致产率降低的问题而设计。该预热装置包括预热槽、检测组件和加热元件，预热槽设置有用于盛放工艺溶液的内腔；预热槽开设有溶液注入口和溶剂注入口；溶剂注入口的前端设置有可调流量计，可调流量计用于调节进入内腔的溶剂流量。检测组件用于检测内腔的工艺溶液的参数信息，以根据参数信息确定工艺溶液浓度值，以根据工艺溶液浓度值控制可调流量计的开度。加热元件安装于预热槽，用于加热内腔的工艺溶液。本实用新型节省了调整准备时间，提高了产率。

代理人: 李梦宁

代理机构: 北京荟英捷创知识产权代理事务所(普通合伙) 11726