申请类型: 实用新型
申请号: CN202421043613.9
申请日期: 2024-05-13
公开号: CN222226645U
名称: 一种真空炉用发热件的固定装置
公开日期: 2024-12-24
当前法律状态: 授权
状态: 有权
主要IPC: C30B23/00(2006.01);F27D11/02(2006.01);C30B29/36(20
申请人(专利权人): 中电化合物半导体有限公司
发明人/设计人: 马远;薛卫明;潘尧波
地址: 315336 浙江省宁波市杭州湾新区玉海东路68号15号、16号楼
摘要: 本实用新型提供一种真空炉用发热件的固定装置,至少包括:真空炉,包括炉壁,所述炉壁沿着所述真空炉的重力方向设置;孔洞,设置在所述炉壁上;发热件,设置在所述真空炉内;石墨电极,垂直于所述炉壁设置,且所述石墨电极的一端与所述发热件连接,另一端穿过所述孔洞;铜电极,所述铜电极的一端与所述石墨电极远离所述发热件的一端连接,另一端向远离所述真空炉的一侧延伸;电缆,与所述铜电极远离所述真空炉的一端连接;保温结构,环绕所述石墨电极,设置在所述真空炉内;以及调节结构,环绕所述铜电极,设置在所述真空炉外。本实用新型提供的固定装置,能够释放发热件的热膨胀应力,减轻原料蒸汽在保温结构和石墨电极上沉积的现象。
代理人: 林安安
代理机构: 上海汉之律师事务所 31378
申请日期: 2024-01-03
公开日期: 2024-12-24
查看更多申请日期: 2023-12-29
公开日期: 2024-12-24
查看更多申请日期: 2023-12-29
公开日期: 2024-12-24
查看更多申请日期: 2024-05-14
公开日期: 2024-12-24
查看更多申请日期: 2023-12-29
公开日期: 2024-12-24
查看更多申请日期: 2023-12-28
公开日期: 2024-12-24
查看更多申请日期: 2023-12-27
公开日期: 2024-12-24
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公开日期: 2024-12-24
查看更多申请日期: 2023-12-26
公开日期: 2024-12-24
查看更多申请日期: 2024-05-14
公开日期: 2024-12-24
查看更多申请日期: 2023-12-22
公开日期: 2024-12-24
查看更多申请日期: 2023-12-20
公开日期: 2024-12-24
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查看更多申请日期: 2024-05-13
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